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  • HCCF水消毒處理用臭氧發(fā)生器設(shè)備
    HCCF水消毒處理用臭氧發(fā)生器設(shè)備

    水消毒處理用臭氧發(fā)生器設(shè)備 水處理時必須選用高濃度臭氧發(fā)生器(臭氧濃度超過12mg/L),低濃度臭氧對水處理沒有影響。高濃度臭氧發(fā)生器的標準配置包括空氣源、空氣源處理裝置和臭氧發(fā)生器。

    時間:2021-01-30型號:HCCF
  • HCCF模塊化臭氧發(fā)生器的水消毒原理
    HCCF模塊化臭氧發(fā)生器的水消毒原理

    模塊化臭氧發(fā)生器的水消毒原理 空氣-水混合裝置是臭氧用于水處理*的配套技術(shù),臭氧在水中易溶,溶解度比氧氣高出十多倍,但必須采用充分接觸臭氧的技術(shù)手段,接觸面積、時間、臭氧濃度、壓力等都是影響混合效果的決定因素。

    時間:2021-01-08型號:HCCF
  • HCCF空氣消毒臭氧發(fā)生器使用注意事項
    HCCF空氣消毒臭氧發(fā)生器使用注意事項

    HCCF空氣消毒臭氧發(fā)生器使用注意事項:較高的溫度會分解臭氧,促進臭氧還原成氧氣,減少臭氧生成量。因此,在產(chǎn)生臭氧的過程中,需要冷卻臭氧發(fā)生器進行空氣消毒,以穩(wěn)定和增加產(chǎn)生的臭氧量。

    時間:2021-01-06型號:
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